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¿Por qué la alúmina calcinada en plaquetas se puede utilizar para el pulido de semiconductores?

¿Por qué la alúmina calcinada en plaquetas se puede utilizar para el pulido de semiconductores?

La alúmina calcinada en plaquetas  es una forma especializada de alúmina (óxido de aluminio) que se utiliza en diversas aplicaciones de alta tecnología, incluida la industria de semiconductores. En lo que respecta a  las obleas de arseniuro de galio (GaAs) , la alúmina calcinada en plaquetas se puede utilizar en varios procesos críticos:

  1. Pulido y planarización :
    • Las obleas de GaAs requieren superficies extremadamente lisas y planas para la fabricación de dispositivos semiconductores. La alúmina calcinada en plaquetas se utiliza a menudo como material abrasivo en lodos de pulido para lograr el acabado superficial deseado. La morfología en plaquetas de las partículas de alúmina ayuda a lograr una tasa de eliminación de material uniforme y controlada, lo que es crucial para aplicaciones de alta precisión.
  2. Planarización químico-mecánica (CMP) :
    • En el proceso CMP, que se utiliza para aplanar y pulir superficies de obleas, la alúmina calcinada en plaquetas puede ser un componente clave de la suspensión. La forma y dureza únicas de las partículas de alúmina ayudan a eliminar de manera eficaz las imperfecciones de la superficie y a lograr un alto grado de planarización.
  3. Limpieza de superficies :
    • Después de varios pasos de procesamiento, las obleas de GaAs deben limpiarse para eliminar cualquier partícula residual o contaminante. La alúmina calcinada en plaquetas se puede utilizar en soluciones de limpieza para frotar suavemente la superficie sin causar daños, lo que garantiza que las obleas estén libres de defectos.
  4. Gestión térmica :
    • Los dispositivos GaAs suelen funcionar a frecuencias altas y pueden generar un calor considerable. La alúmina calcinada en plaquetas, debido a su excelente conductividad térmica y propiedades de aislamiento eléctrico, se puede utilizar en soluciones de gestión térmica, como difusores de calor o sustratos, para ayudar a disipar el calor y mejorar el rendimiento y la fiabilidad del dispositivo.
  5. Embalaje y encapsulación :
    • En las etapas finales de fabricación de dispositivos, las obleas de GaAs suelen cortarse en chips individuales y empaquetarse. La alúmina calcinada en plaquetas se puede utilizar en los materiales de empaquetado para proporcionar estabilidad térmica, aislamiento eléctrico y resistencia mecánica.

En general, el uso de alúmina calcinada en plaquetas en el procesamiento de obleas de arseniuro de galio está impulsado por sus propiedades únicas, incluida su dureza, conductividad térmica y estabilidad química, que son esenciales para lograr el alto rendimiento y la confiabilidad requeridos en los dispositivos semiconductores.

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